مقاله ترجمه شده انگلیسی به فارسی

Alignment verification for electron beam lithography

عنوان فارسی:

تایید (کنترل) همراستایی برای لیتوگرافی پرتو الکترون

چکیده

همراستایی بین لایه های لیتوگرافی برای تولید ابزار ضروری می باشد. نقص جزئی در یک علامت مجزایی می تواند منجر به هم ترازی غیرصحیح شود و می تواند منبع تعدیل ویفر باشد. در این مقاله، ثابت می کنیم که این امر می تواند به وسیله مشخصه های هم ترازی اضافی برای بررسی هم ترازی در طول الگوبرداری، به جای بازرسی الگوهای ورنیه بعد از کامل شدن طراحی جلوگیری شود. الگوهای دقیق ورنیه اغلب می توانند فقط بعد از آنکه انجام تبدیل الگو خوانده شوند. همچنین ثابت می کنیم که با استفاده از یک ورقه پنروز به عنوان یک مشخصه، امکان قرار دادن مشخصه (مارکر) در تقریبا 1nm بدون هیچ گونه مقاومتی وجود دارد.

تعداد صفحات انگلیسی: 4

تعداد صفحات فارسی: 11

سال مقاله: 2014

فرمت فایل: PDF انگلیسی+ WORD فارسی